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      半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”

      作者:SMT設備 瀏覽量: 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 時(shí)間:2022-08-20

      信息摘要:

      大家在學(xué)生時(shí)代的美術(shù)課上創(chuàng )作過(guò)的“版畫(huà)”是一種通過(guò)在木材、金屬或石材的表面上繪制形狀,然后涂上墨水或顏料印在紙或布上的繪 畫(huà)形式??涛g工藝與這種版畫(huà)的刻蝕 (Etching)技術(shù)有著(zhù)相似的原理。繪畫(huà)中的刻蝕技術(shù)是指在銅板上涂抹防止酸產(chǎn) 生化學(xué)反應的防腐蝕劑,然后利用鋒利的工具 刮削,露出銅板的過(guò)程,然后再將銅板放入腐 蝕液(稀硝酸)中,控制其腐蝕程度從而產(chǎn)生圖形。干法刻蝕過(guò)程中的注意事項第一,維持

      半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”

      大家在學(xué)生時(shí)代的美術(shù)課上創(chuàng )作過(guò)的“版畫(huà)”是一種通過(guò)在木材、金屬或石材的表面上繪制形狀,然后涂上墨水或顏料印在紙或布上的繪 畫(huà)形式??涛g工藝與這種版畫(huà)的刻蝕 (Etching)技術(shù)有著(zhù)相似的原理。 繪畫(huà)中的刻蝕技術(shù)是指在銅板上涂抹防止酸產(chǎn) 生化學(xué)反應的防腐蝕劑,然后利用鋒利的工具 刮削,露出銅板的過(guò)程,然后再將銅板放入腐 蝕液(稀硝酸)中,控制其腐蝕程度從而產(chǎn)生圖形。

      半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”(圖1)

      干法刻蝕過(guò)程中的注意事項

      第一,維持一致性(Uniformity)。一致性是指刻 蝕的速度在晶圓上的各個(gè)部位“有多相同”在 工藝進(jìn)行的過(guò)程中,一定時(shí)間下,不同的晶圓部位刻蝕的速度不同,形成的形狀也可能不同,所以可能會(huì )導致位于某些部位的芯片發(fā)生不良現象或其特性發(fā)生變化。

      第二,刻蝕速度(Etch Rate)。它意味著(zhù)在一定時(shí)間內可以去除多少薄膜??涛g速度主要取決于表面反應所必需的反應性原子和離子的數量以及離子的能量,所以提高對這些因素的控制能力就可以提高總收益率。此外,選擇性(Selectivity)、形狀(Profile)等也是干式刻蝕的重要因素。

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      TAG標簽: 半導體
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